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NANOMAGNETISMO y ELECTRONICA DE ESPIN Laura B. Steren Depto. FISICA de la MATERIA CONDENSADA Centro Atómico Constituyentes, S.M. NUEVOS EFECTOS, CONSECUENCIA DEL CONFINAMIENTO Y FABRICACION DE NANOESTRUCTURAS ARTIFICIALES!! TEMAS DE INVESTIGACION DEL GRUPO • EFECTOS de CONFINAMIENTO sobre las PROPIEDADES ELECTRONICAS y MAGNETICAS de NANOESTRUCTURAS MAGNETICAS • EFECTO TUNEL POLARIZADO EN ESPIN y FILTROS DE ESPIN Nuevas estrategias para el diseño y fabricacion de dispositivos magnetoresistivos. MnAs: miniaturizacion a escala micro NANOESTRUCTURAS UNICAS 5x5mm2 ARREGLOS EN GRANDES SUPERFICIES = Anisotropia en la estructura de dominios magneticos = Comportamiento en funcion de T y campo magnetico = Dinamica de paredes de dominio Film de MnAs Ro Dependencia en temperatura de sus propiedades magnetoelectricas 4 40K 2 T 1 -5.0x10 -3 -1.0x10 -2 0 -1 65K -2 0 0 2 H 4(T) 6 50 100 8 150 200 250 T (K ) 300 A resolver: *Mecanismo de transporte balistico/difusivo *Polarizado en espin? *Tipo y cantidad de portadores *Efectos bordes/interfases? 25 20 MR (%) -3 0.0 15 I+ 10 5 -5 VH V+ 0 0 50 100 150 200 250 300 VH V- T (K) MR% V H (10 V) 3 I0 2 4 6 H (T) 8 10 JUNTURAS TUNEL Espaciador aislante entre dos electrodos metalicos Con electrodos magnéticos, el efecto depende del arreglo relativo de las magnetizaciones de la muestra DESAFIOS EXPERIMENTALES: FABRICACION DE JUNTURAS 1- CRECIMIENTO DE MUESTRAS 2- NANOESTRUCTURACION 0.03 0.02 T = 5K I = 1A R/R(0) 0.01 0.00 -0.01 -0.02 -0.03 -0.4 -0.2 0.0 0.2 Campo magnético [Oe] Preguntas: *Rol de la barrera e interfaces *Polarizacion en espin de las interfaces *Eficiencia juntura 0.4 DESPLAZAMIENTO DE PAREDES DE DOMINIOS POR INYECCION DE CORRIENTE ELECTRICA ANILLOS I+ V + V- I- SEM IMAGE CMA (UBA) 300 nm HILOS 62 nm Preguntas: *Paredes de dominios: geometria de anclaje (defecto), efectos de borde y tamaño…. * Dinamica de paredes de dominio, dependencia en campo magnetico, corriente electrica y anclajes – tiempos caracteristicos, etc. METODOLOGIA 2 T = 300 K (a) (b) 1 I (nA) (c) 0 -1 MAGNETISMO -2 -4 - A nivel local: microscopia de fuerza magnetica. f(T,H) - A nivel bulk: magnetometria SQUID o VSM - Simulaciones TRANSPORTE ELECTRICO - A nivel local: mapeo de conductancia = CAFM - En general: medidas de magnetoresistencia y efectoHall en funcion de temperatura y campo magnetico DISEÑO Y FABRICACION DE DISPOSITIVOS - Crecimiento por sputtering - Litografia electronica y optica - Grabado por ataque ionico inerte o reactivo -2 0 V (V) 2 4 GRUPO CAB- CAC Gabriela Alejandro (I) Martin Sirena (I) Enrique Kaul (I) Mara Granada (I) Federico Fernandez Baldis (doc) Luis Rodriguez (doc) Colaboraciones: Ana Maria Llois, CAC Gabriela Leyva CAC Victor Etgenes INSP, Francia Giancarlo Faini LPN, Francia Javier Briatico Thales-CNRS, Francia Laura Steren steren@tandar.cnea.gov.ar